真空镀铝工艺工艺要求

　　真空镀铝是在真空状态下，将铝金属加热熔融至蒸发，铝原子凝结在高分子材料表面，形成极薄的铝层。真空镀铝要求基材表面光滑、平整、厚度均匀；挺度和摩擦系数适当；表面张力大于38dyn／cm’；热性能好，经得起蒸发源的热辐射和冷凝热的作用；基材含水量低于0．1％。常用的镀铝基材有聚酯(PET)、聚丙烯(PP)、聚酰胺(N)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)等薄膜。
　　工艺要求：真空度不得低于10-3Pa，以免出现褐色条纹或铝层厚度不均现象；控制好系统张力，开启冷却系统，避免薄膜受热出现拉伸变形；精确控制卷取速度(280--320m／min)、送铝速度(0．4--0．7m／min,直径2mm铝丝)及蒸发舟加热电流，以获得产品要求的铝层厚度(100—300A)；可预先在薄膜上涂布一定量的底胶，并充分干燥，再经真空镀铝，可提高铝层与薄膜的结合力。而后在铝膜上涂布一定量的保护树脂，防止铝层氧化变质。经此工艺形成的镀铝薄膜，耐摩擦，且不易变质。